曹能能有些许得意，“那是！”

要想提高精度，和之前一样光靠富勒烯是不行了。

他们接下来的目标是几种富勒烯衍生物，一样是带酚基的，一样是含金刚烷还有其他若干。

甚至是非富勒烯体系的，也在他们研究之列。

一些则是现在普遍用的光刻胶，一些是国内学者研究地很多的9，9'-螺二芴衍生物和双酚A衍生物，还有一些分子玻璃胶、酚醛树脂胶等等。（1）

这些都在他们的考察之列。

宋问声不可能因为自己有资料，就放弃研究其他的东西。

这样会故步自封。

起得比鸡早，睡得比狗晚，大概就是他们这样的了，就连饭是在等待实验的时候吃。

最忙碌的应该是宋问声。

他亲自指点那几个研究员合成富勒烯系列的衍生物，有时候还要去看看其他人合成得怎么样。

而曹能能和吴勇他们也是各自带领人研究别的，他们的经验也只是对别的，富勒烯这边他们插不上什么手。

有了宋问声时不时的指点，他们整个光刻胶小组每三天工作进度汇报上，永远都是走在最前列的。

时间只有六个月。

进入221项目大半个月的时候，他们的带酚基富勒烯光刻胶就已经验收成功，可以用在10nm-14nm的芯片制造当中。

这件喜事被迅速通报给全基地，给研发光刻机陷入低迷状态的研究员们带来一些鼓励和安慰。

在得知这是宋问声领导的小组之后，众人只有膜拜和感慨几个词语来形容他们此时此刻的心情了。

宋问声不愧是论文刷子！

不，应该说是科研杀手，在你意想不到的时候总是给人来那么一下，带来的不是绝望而是希望。

有了这件事情当做典型，基地里的许多研究员再次拾起刚来的时候的雄心壮志，重新上路。

曹能能和吴勇他们也在加紧，但是他们不是宋问声，没有那种如有神助的科研直觉和系统，只能靠他们的科研经验摸索。

他们也很不错，在一个月内，把以前使用的金属氧化物的聚合物光刻胶的精度提高到了可以在65nm-90nm的芯片制造当中使用，当然这里头离不开宋问声的指点。

本来有些小得意的他们，很快又被宋问声打败。

富勒烯衍生物 IM-MFPT在制程10nm以内表现出了比含酚基的富勒烯光刻胶更好的灵敏度和分辨率、低线宽粗糙度、高耐蚀刻性和工业加工相容性。（1）

而宋问声他们也迅速突破到了精度为5-10nm之内的芯片制造所使用的光刻胶。

作者有话说：

（1）来自于《7 nm 高分辨率极紫外光刻胶研究新进展》，谭俊玉；

（2）看到新闻说要有3nm的光刻机量产了，我心里一阵着急；

（3）富勒烯量产是个漏洞，我都忘记了，现在只能几句话补回来，前头光刻胶测试的时候忘记提一提中芯国际和芯片流片的问题了，大家忽略吧。

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第173章 各怀鬼胎